基线管理器
基线管理器使您能够定义何时创建基线的规则,并使您能够在存储的基线中重置时间范围,以消除非自然的跳水和峰值。 缺省情况下, SevOne NMS 会为每个轮询的指示符创建基线。 基线管理器使您能够定义规则,以防止创建您认为不相关的基线。
要从导航栏访问基线管理器,请单击 管理 菜单,然后选择 基线管理器。

通过 " 群集管理器 ">" 群集设置 "选项卡,您可以更改基线粒度。 缺省基线粒度为 900 秒 (15 分钟)。 对于缺省基线粒度, SevOne NMS 收集 15 分钟的数据,并将 15 分钟的数据存储在存储区中。 将对每个存储区中的数据进行平均,以便为每个存储区创建一个数据点。 每个指标的基线使用一周的数据,每个指标的每个基线总共 672 个数据点。 新指示符开始在第一次轮询时创建基线,但阈值需要完整周的轮询数据才能触发基于基线的警报。 随着时间的推移,基线变得更准确地表示指标的平均操作。
基准规则
"全局基线" 规则首先显示在列表中,您无法编辑或删除 "全局基线" 规则。 "全局基线" 规则使您能够为所有指示符创建基线,或者不为所有指示符创建基线。 缺省情况下,将启用 "全局基线" 规则,以便为所有指示符创建基线。
您可以保留 "全局基线" 规则并为不希望从中创建基线的指示符类型定义规则,也可以关闭 "全局基线" 规则并定义规则以仅创建对您重要的基线。
单击 添加规则 以显示一个弹出窗口,使您能够定义基线规则。 所有字段都是可选的,并且每个选择都提供了更多详细程度。
- 单击 设备组 下拉列表,然后选择包含要为其创建基线规则的对象的设备组/dev冰类型。
- 单击 对象组 下拉列表,然后选择包含要为其创建基线规则的对象的对象组。
- 单击 插件 下拉列表,然后选择用于轮询要为其创建基线规则的对象的插件。
- 如果可用,请单击 对象类型 下拉列表,然后选择要为其创建基线规则的对象类型。
- 可用时,单击 指示符类型 下拉列表,然后选择包含要为其创建基线规则的指示符的指示符类型。
- 选择其中一个 创建基线 选项。
- 选择 开启 为满足规则条件的数据创建基线。
- 选择 关闭 以不为满足规则条件的数据创建基线。
- 单击添加。
规则示例
定义规则以不为所有 Linux 设备创建基线,并将全局基线规则设置为开启。

定义一条规则,禁止为任何 SNMP 轮询器风扇创建基线,同时保持全局基线规则处于启用状态。

定义规则,为所有路由器 SNMP 轮询器信息(除"入站字节"和"出站字节"指标外)禁用基线创建功能,同时保持全局基线规则处于启用状态。 这需要三个规则。

重置基线
当基线包含包含非自然探底或峰值的时间范围时,请执行以下步骤来重置基线。 群集管理器 > 群集设置选项卡可让您定义基线粒度。 重置基线 "弹出窗口会显示 "基线长度为 <n> 分钟 "的信息,告知您基线的粒度。 不能重置小于基线详细程度长度的基线时间范围。
- 单击 重置基线 以显示 "重置基线" 弹出窗口。
- 单击 重置类型 下拉列表。 以下字段取决于您在此处所作的选择。
- 选择 设备 以重置特定设备的基线,并执行以下步骤。
- 单击 设备 下拉列表,然后选择包含要重置基线的指示符的设备。
- 单击 插件 下拉列表,然后选择用于轮询对象的插件。
- 单击 对象 下拉列表,然后选择包含指示符的对象。
- 单击 指示符 下拉列表,然后选择要重置基线的指示符。
- 选择 设备组 以重置设备组/dev冰类型的基线,并执行以下步骤。
- 单击 设备组 下拉列表,然后选择包含要重置基线的对象类型的设备组/dev冰类型。
- 单击 插件 下拉列表,然后选择用于轮询对象类型的插件。
- 单击 对象类型 下拉列表,然后选择包含指示符类型的对象类型。
- 单击 指示符类型 下拉列表,然后选择要重置基线的指示符类型。
- 选择 对象组 以重置对象组的基线,并执行以下步骤。
- 单击 对象组 下拉列表,然后选择包含要重置基线的对象的对象组。
- 单击 插件 下拉列表,然后选择用于轮询对象类型的插件。
- 单击 对象类型 下拉列表,然后选择包含指示符类型的对象类型。
- 单击 指示符类型 下拉列表,然后选择要重置基线的指示符类型。
- 选择 设备 以重置特定设备的基线,并执行以下步骤。
- 填写 "时间范围" 部分中的字段,以定义要重置的时间范围的开始和时间范围的结束。 您必须以全球标准时间 (UTC) 输入时间范围,也称为格林威治标准时间 (GMT)。
- 输入两个时间值,这两个时间值等于重置整个星期 (周日 0:00 到周日 0:00) 的基线。
- 输入一个时间范围,当事件导致数据偏差 1 小时 (周一 10:00 到周一 11:00) 时,将该时间范围重置为 1 小时。
- 单击 重置基线。 系统会提示您确认,如果选择继续,那么您知道无法撤销此操作。