應用程式延伸登錄

WebSphere® Application Server 已啟用 Eclipse 延伸架構，可供應用程式使用。 當應用程式包含已定義的延伸點，並為應用程式的可延伸區域提供延伸處理程式碼時，應用程式是可延伸的。

應用程式可以插入另一個可延伸的應用程式，方法是定義符合目標延伸點需求的延伸。 延伸點可以動態找到新增的延伸，而新的功能則會無縫地整合在現有的應用程式中。 它適用於跨 Java™ Platform, Enterprise Edition (Java EE) 模組。 應用程式延伸登錄會使用 Eclipse 外掛描述子格式和應用程式設計介面 (API)，作為 WebSphere 應用程式的標準延伸機制。 建置 WebSphere 應用程式模組的開發人員可以使用 WebSphere Application Server 延伸規格，對定義延伸點的可延伸應用程式實作其功能。 這是透過應用程式延伸登錄機制來完成。

可延伸 Java EE 應用程式的架構遵循模組化設計，以新增功能模組或取代現有模組，特別是核心開發團隊以外的模組。 每一個模組都是外掛單元或外掛程式，可部署至入口網站，或使用基於標準 Java EE 及入口網站 Web 模組部署工具的部署工具從 Java EE 應用程式移除。 外掛程式模組說明它可延伸的位置，以及它在 plugin.xml 檔中提供給其他外掛程式的功能。 plugin.xml 資訊清單檔可以使用簡式文字編輯器或在 Eclipse的「外掛程式開發環境 (PDE)」中建立，以提供相同基礎 XML 資料的簡化視圖。

Eclipse 模型的 WebSphere Application Server 實作

由於平台 (特別是 Eclipse Workbench 或 Java 2 Platform Enterprise Edition (Java EE)) ，此架構的 WebSphere Application Server 實作中存在一些次要差異。 WebSphere Application Server 實作的重點包括:
  • 從 Eclipse 3.6 以及更新版本實作所有延伸登錄相關介面。
  • The identical plugin.xml syntax, however, some attributes are not used, for example, <runtime>.
  • 當包含 Java EE 模組啟動時，會探索外掛程式並將其新增至登錄，當包含 Java EE 模組停止時，會跳出外掛程式並從登錄中移除。
  • IExtensionRegistry 物件的存取權是透過「Java 命名和目錄介面 (JNDI)」，而不是在 Eclipse Workbench 中使用 Platform.getExtensionRegistry 方法。
  • 提供過濾器實作並使用具名登錄實例來尋找並根據需要呼叫過濾器，即可使用過濾功能。 如需詳細資料，請參閱 IExtensionRegistryFilter 介面的開發人員 API 文件。

可用的 Eclipse 3.6 介面

WebSphere Application Server上提供下列 Eclipse 3.6 以及更新版本的介面:

  • 延伸登錄 API
  • 延伸點 API
  • 延伸 API
  • 配置元素 API
  • 登錄變更接聽器 API
  • 登錄變更事件 API
  • 延伸差異 API
  • 狀態 API
下列介面的辨識及處理方式與 Eclipse中相同:
  • 執行檔延伸 API
  • 執行檔延伸 Factory API